电路板水平脉冲镀铜
电路板水平脉冲镀铜
Applications and processes
应用和过程

马赫内托开发的专用水平脉冲阳极RPP应用在闪镀和填孔槽段均可使用,在高电流密度条件下涂层具有高效催化活性,可以更好的提高电镀的电流效率。

superiority
优势
  • 卓越耐久性
  • 全兼容适配
  • 成本优势显著
  • 优越的镀铜均匀性
Application conditions
应用条件
  • 铜离子来源
    无氧铜块
  • 电解质
    水平脉冲:CuSO4·5H2O、H2SO4、Fe3+ /Fe2+、Additives
  • 温度
    20°C-60°C
  • 电流密度
    通常2-8ASD正向脉冲电流和6-24ASD反向脉冲电流
  • 脉冲频率
    根据实际工况调整
  • 阳极类型
    全新一代RPP专用混合贵金属(铱)氧化物涂层钛阳极
  • 阳极寿命
    大于一年或≥5W KAH(闪镀)、≥7W KAH(填孔)
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