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电路板水平脉冲镀铜
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Applications and processes
应用和过程
马赫内托开发的专用水平脉冲阳极RPP应用在闪镀和填孔槽段均可使用,在高电流密度条件下涂层具有高效催化活性,可以更好的提高电镀的电流效率。
superiority
优势
卓越耐久性
全兼容适配
成本优势显著
优越的镀铜均匀性
Application conditions
应用条件
铜离子来源
无氧铜块
电解质
水平脉冲:CuSO
4
·5H
2
O、H
2
SO
4
、Fe
3+
/Fe
2+
、Additives
温度
20°C-60°C
电流密度
通常2-8ASD正向脉冲电流和6-24ASD反向脉冲电流
脉冲频率
根据实际工况调整
阳极类型
全新一代RPP专用混合贵金属(铱)氧化物涂层钛阳极
阳极寿命
大于一年或≥5W KAH(闪镀)、≥7W KAH(填孔)